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      晶體加工鍍膜超純水設備

      產(chǎn)品介紹
      光子晶體、半導體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過程中,往往需要使用極其純凈的超純水,如果純水水質(zhì)達不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話,會影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中,如其中混入雜質(zhì),就會影響電子的發(fā)射,進而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),如其配制純水中含銅在8ppb以上,就會引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。
      工藝設計
      1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
      2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)(最新工藝)
      3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
      4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(最新工藝)  5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
       
      設備特點
      1、連續(xù)運行禪水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)好。
      2、系統(tǒng)運行穩(wěn)定。
      3、運行成本低。
      4、占地面積小。
      5、自動化程度高。
       
      技術參數(shù)
      鐵離子: < 0.01mg/L
      游離氯: < 0.5mg/L
      硬度: < 1.0mg/L
      活性SiO2: < 0.5mg/L
      總有機碳: < 0.5mg/L
      PH: 5.0-9.0
       
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