半導體硅片生產(chǎn)用超純水處理設備

硅片，是制作集成電路的重要材料，通過對硅片進行光刻、離子注入等手段，可以制成各種半導體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運算能力?？茖W技術(shù)的發(fā)展不斷推動著半導體的發(fā)展。自動化和計算機等技術(shù)發(fā)展，使硅片（集成電路）這種高技術(shù)產(chǎn)品的造價已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應用于航空航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)和國防，甚至悄悄進入每一個家庭。

1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透設備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點

1、連續(xù)運行禪水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)更佳。
2、系統(tǒng)運行可靠性穩(wěn)定。
3、運行成本低。
4、占地面積小。
5、自動化程度高。
6、操作及維護簡單，無需接觸酸堿。
7、使用安全及環(huán)境良好。
8、無污水排放，無環(huán)境污染。

電導率：2-10μS/cm（25℃）
PH值：6.5－9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm