半導(dǎo)體生產(chǎn)專用純水設(shè)備

　　硅片，是制作集成電路的重要材料，通過(guò)對(duì)硅片進(jìn)行光刻、離子注入等手段，可以制成各種半導(dǎo)體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運(yùn)算能力?？茖W(xué)技術(shù)的發(fā)展不斷推動(dòng)著半導(dǎo)體的發(fā)展。自動(dòng)化和計(jì)算機(jī)等技術(shù)發(fā)展，使硅片(集成電路)這種高技術(shù)產(chǎn)品的造價(jià)已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應(yīng)用于航空航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)和國(guó)防，甚至悄悄進(jìn)入每一個(gè)家庭。

原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　1、連續(xù)運(yùn)行禪水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)更佳。

　　2、系統(tǒng)運(yùn)行可靠性穩(wěn)定。

　　3、運(yùn)行成本低。

　　4、占地面積小。

　　5、自動(dòng)化程度高。

　　6、操作及維護(hù)簡(jiǎn)單，無(wú)需接觸酸堿。

　　7、使用安全及環(huán)境良好。

　　8、無(wú)污水排放，無(wú)環(huán)境污染。

電導(dǎo)率：2-10μS/cm（25℃）
PH值：6.5－9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機(jī)物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm